羲之，中國曝光機精度逼近 卻難量產
2025-08-30 16:44:35 代妈应聘机构
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- China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production
（首圖來源：中國杭州人民政府）
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- 中媒 ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」
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浙江大學余杭量子研究院研發的機羲近 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」 ，哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的度逼 LDP 光源 ，最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備 。難量但生產效率仍顯不足 。中國之精
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外媒報導 ，華為也被限制在 7 奈米製程 ，【代妈公司有哪些】生產效率遠低於 EUV 系統 。並在華為東莞工廠測試 ，
